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真空鍍膜技術

作者:  來源:  更新時間:2024-9-20  點擊次數:
真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或者化學方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術根據其采用方法的不同科分成蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜。

真空室是真空設備的一個主要組成部位,真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性,結構必須要合理,真空設備的材料生產都是在真空室內進行的,材料對真空度的影響要小,設計不能馬虎,要注意一些問題。

使用磁控濺射的真空鍍膜機一般采用的是圓筒主體結構,結構上要保證快速抽空,因氣袋會緩慢的放氣,因此要避免出現隔離孔穴,真空系統上端會加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強度,保證在外部和內部的作用力下不產生形狀的變化,厚度需要足夠。

焊接是真空室制造中的一道關鍵工序,保證焊接之后的真空室不會產生漏氣現象,須合理設計焊接結構,提高焊接質量,處在超高真空的內壁粗糙度要拋光使室外室內表面很光潔,須特別注意的是需做好防止生銹的措施。
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