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            真空鍍膜機的工作原理

            作者:小真真  來源:www.tedazn.com  更新時間:2020-4-15 10:57:06  點擊次數:
              真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

            真空鍍膜機的工作原理如下:

              在鍍膜領域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此,當評價某薄膜樣品的性能時,需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形,這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題:首先,不同次生長的樣品,儀器的狀態不同,以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度;其次,真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得,非常耗時。增加了生產和檢測的成本。

              因此,提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統,本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發鍍膜與手套箱組合,實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的系統中,消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響,保障了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備。

              多功能磁控濺射鍍膜系統主要用途:用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。
            本文鏈接:http://www.tedazn.com//html/news/2020-4-15/762.html
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